プラズマアッシャーとは
プラズマアッシャーとは、チャンバー内のガスを高周波でプラズマ化し、化学反応を利用してレジスト（有機物）を剥離することです。

プラズマアッシャーの原理
プラズマアッシャーは、DP（Direct Plasma（ダイレクトプラズマ）モードを使用します。ステージをグランドに接続し、対向する上部電極を高周波電源に接続する方式で、RIE方式と違いステージ側にはバイアス電圧が掛からず、処理対象物にイオン入射が殆ど無い為、プラズマ雰囲気全体に処理対象物が暴露されるので等方性の処理となり、プラズマ雰囲気に曝されている面全体の処理が可能となります。
プラズマアッシャーでは、電位を持たない酸素フリーラジカル原子を積極的に利用し、酸素と結合する有機系物質（C/H/O等）を再ガス化して除去します。
尚、イオンの突入による物理的応力は殆ど得られませんので､アルゴン等不活性ガスでの処理には向きません。