光学・電子顕微鏡用試料作製装置

イオンミリング装置

型式	使用ガス	加速電圧	断面ミリング：最大ミリングレート（材料Si）	平面ミリング：最大試料サイズ
IM4000II	Ar（アルゴン）ガス	0.0～6.0kV	500µm/h^*1 以上	Φ50X25(H)mm
ArBlade^® 5000	Ar（アルゴン）ガス	0～8kV	1mm/h^*1 以上	φ50×25(H)mm