目まぐるしく技術革新の進む次世代半導体には、従来の方法からフェーズアップした分析評価法が必要不可欠です。ALD(原子層堆積)、ALE(原子層エッチング)装置を開発・製造しているオックスフォード・インストゥルメンツだからこそ、次世代半導体に求められる分析評価法をご提案することができます。本ウェビナーでは、ラフネス分析・応力分析・不良解析のエキスパートが登壇。事例を交えながら最新の評価解析法について詳しく解説いたします。
| 開催日時 | 2022年8月5日(金) 16:00 オンライン |
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| 会場 | オンライン ウェビナー |
| 主催 | オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社 |
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