TDMシリーズ
断層画像収集から計測・解析まで1システムで完結。

2次電池減圧温度システム
2次電池製造工程ではワークの水分を除去するため、真空乾燥が行われます。処理時間短縮と歩留まり向上のためのシステムです。

角形真空乾燥器
大量処理の用途に応えるよう設計された大型真空乾燥器です。

精密恒温器
大量処理が可能な大型恒温器です。高精度な温度制御を行います。

三次元計測X線CT装置
非破壊で内部構造・不良を高解像度で解析します。

遠赤外線加熱炉
遠赤外ヒータ（IRヒータ）を利用した高分子材料等の熱処理向けオーブンです。

冷却水循環装置
用途例：半導体（QFNパッケージ）用ダイサーブレードの冷却用。

恒温・乾燥器
安全を重視し、環境にも配慮した熱処理用恒温・乾燥器です。温度範囲・大きさの他、多様なご要求にお応えします。

プラズマ装置
研究開発用からプロセス用まで、超微細加工、表面処理・改質等のニーズにお応えするプラズマ装置です。

恒温水槽
使い易く操作性の高い恒温水槽です。温度範囲、容量、機能など豊富なバリエーションでお応えします。

クリーンベンチ
クリーンベンチはクリーン環境の中で最も汎用性の高い装置です。あらゆる分野で要求される清浄環境とともに快適な空間を提供します。

インキュベータ
培養用。

電気炉
ホットプレート式です。